VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。
用直流磁控溅射仪可获得单相Al膜
技术参数
输入电压 | AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz |
输入功率 | < 2000W |
输出功率 | 电压：1600VDCzui大电流：150mA |
腔体 | 石英腔体：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height |
| 2英寸带水冷磁控溅射头一个直径50mm不锈钢样品台，样品台可旋转，旋转速率0 - 5 RPM 配有一手动操作的挡板，包含靶头支撑架 样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围：60-100mm  （点击图片查看详细资料） |
控制面板 | 6" PLC集成触摸屏控制面板，可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度 |
| 双极旋片真空泵VRD-8，KF25接口 KF25不锈钢波纹管 10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头 |
气氛 | 含一个控制进气的针阀和一个放气阀 |
| 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金属，可选购 |
可选配件 | 膜厚监测仪分子泵，可获得高真空， >10E-5 torr为获得的薄膜强度，建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。500度样品加热台 |
体积 | |
净重 | 20 kg ( not included pump ) |
质保和证书 | 一年质保，终生维护CE认证 |
磁控溅射镀膜知识 | 与客户分享的磁控溅射镀膜技术，请点击文章链接- Plasma Sputter Coating. |
